基本情報
Last Update:2021/03/06
公式サイト
ライセンス
Apache License, Version 2.0
利用環境 | Linux/Unix上で要コンパイル |
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現在アプリ掲載数323件
お問合せ / アプリ掲載依頼溶媒を連続体モデル(陰溶媒モデル)として取り扱った第一原理計算を行うためのアプリケーション。VASPへのパッチとして公開されている。分子動力学計算や、nudged elastic band法による溶媒中の反応障壁への計算に対応する。
利用環境 | Linux/Unix上で要コンパイル |
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