基本情報
Last Update:2021/03/05

公式サイト

http://kkr.issp.u-tokyo.ac.jp/

ライセンス

申請が必要 http://kkr.issp.u-tokyo.ac.jp/subscription/
開発者赤井 久純(東京大学 物性研究所), 小倉 昌子(大阪大学 大学院理学研究科)
対象となる物質・モデル金属、半導体、酸化物など。
手法KKR-CPA法。
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